리소그래피 | UNIST News Center

반도체 전쟁의 핵심 무기, ‘EUV 리소그래피’

EUV 없이는 반도체 생산 불가능 ArF 보다 미세한 패턴닝 가능해

일본 NTT 연구원으로부터 알려져 ASML·SVGL 합동 프로젝트 시작 당시 연구에 필자가 총 책임 맡아

얼마전 대통령의 네덜란드 국빈방문시 들렀던 반도체 설비 제작사 ‘ASML’이 화제가 된 바 있다. 얼마나 대단한 회사이면 네덜란드 국왕과 한국 대통령이 같이 소위 토끼복이라 불리우는 방진복을 입고 직접 클린룸까지 견학하게 됐을까. 이 회사는 세계에서 유일하게 최첨단 반도체에 사용되... 더보기

2024.01.18By 정 순문기고

‘밀어주고 부풀리면’ 단계적으로 완성되는 대면적 무결점 나노패턴

김소연 에너지 및 화학공학부 교수 공동연구팀, 나노패턴을 효과적으로 정렬시킬 전략 제시

패턴의 배향 정렬과 결함 제거를 순차적으로 진행 ... Science Advances 논문 게재

나노미터 크기의 규칙적인 구조인 나노패턴을 구현하는 기술은 반도체 소자, 광전소자 제조의 핵심 기술이다. 하지만 리소그래피(Lithography)와 같은 값비싼 공정에 의존하고 있어, 늘어나는 수요에 대응하기 위한 대안이 필요하다. UNIST 에너지 및 화학공학부의 김소연 교수팀은 KIST... 더보기

2019.06.17By 양 윤정연구