유전율 | UNIST News Center

“0 나노미터 광학 소자”제조 기술 개발.. 나노 공정 기술의 한계 극복!

UNIST 김대식 특훈교수팀, 금속 미세 틈 기반 고효율 광학소자 개발

반도체 초미세 소자 제조 등에도 응용 가능....Adv. Opt. Mater. 논문 게재

“0 나노미터 광학 소자”제조 기술 개발.. 나노 공정 기술의 한계 극복!

나노 공정 기술 개발 속도가 더뎌지고 있다. 나노 공정은 고성능 반도체 칩 개발 등 초정밀 산업을 위한 핵심기술이지만, 초미세 구조 공정 단위가 0에 가까워질수록 기술 개발 속도 또한 한계치에 수렴해 가고 있기 때문이다. 더 이상 초미세 구조로 줄여 나가는 것이 쉽지 않다면, 아예 0부터 구조를 쌓아나가... 더보기

2021.04.15By 양 윤정연구

“더 작고 빠르게”… 미래 반도체 핵심 신소재 발견

UNIST·삼성전자 종합기술원, 반도체 내부 전기 간섭 최소화하는 소재 개발

'소자 미세화'로 반도체 집적도·정보처리 속도 향상… Nature 논문 게재

반도체 칩 안에 금속 배선을 분리하는 새로운 소재가 개발됐다. 이 소재를 이용하면 소자를 아주 작게 만들 수 있고, 메모리와 같은 반도체 칩의 작동 속도를 높일 수 있다. UNIST（총장 이용훈) 자연과학부의 신현석 교수팀과 삼성전자 종합기술원(원장 황성우)의 신현진 전문연구원팀, 기초과학연구원(IBS)... 더보기

2020.06.30By 양 윤정연구